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                    解密,靶材在真空電鍍中的應用

                    點擊量:839  更新時間:2019/10/18

                    隨著時代的發展,為了滿足更安全、更節能、降低噪聲、減少污染物排放的要求,在表面處理工藝上,真空電鍍已經成為環保新趨勢。與一般的電鍍不同,真空電鍍更加環保,同時,真空電鍍可以生產出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

                    真空電鍍基本是一種物理沉積現象,既是在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。而在這電鍍的過程中,靶材是至關重要的存在,那么靶材在真空電鍍過程中的應用有哪些?今天小編就詳細為大家介紹一下。

                    通常情況下,靶材在真空電鍍中的應用具有以下幾個特點:

                    (1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

                    (2)再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

                    (3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

                    (4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。

                    (5)較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。

                    (6)濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。

                    (7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

                    (8)薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜。

                    (9)靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。

                    (10)靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及有效率。

                    以上就是小編為大家總結的,靶材在真空電鍍中的應用的一些特點了,作為新興科技產物,靶材的出現是在表面處理工藝上一次大的進步。
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