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                    磁控濺射一定要求靶材表面拋光嗎

                    點擊量:1335  更新時間:2019/12/3

                    磁控濺射過程中,等離子體的離子撞擊靶材,濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等,原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。

                    濺射發生在靶材表面,靶材表面物理狀態不均勻也沒有關系,濺射的時候會先濺射凸起,濺射時間長了,靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態不需要拋光。

                    濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質,所以如果是表面容易變質的靶材,如果不拋光去除表面變質部分,沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。

                    有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮,在直流脈沖、中頻濺射過程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時候進行物理拋光。

                    一般靶材拋光后,濺射速率、電壓等工藝參數比較穩定,容易控制。

                    所以結論就是,活性金屬靶材要求表面拋光,不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。
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