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                        電子產品濺射鍍膜使用的靶材

                        點擊量:469  更新時間:2019/12/23

                        電子產品在各行各業中都有所應用,而這些電子產品大部分都需要進行鍍膜后才投入到市場之中,現在常用的真空鍍膜設備是磁控濺射真空鍍膜機,在這里,我們來看一下在濺射中所使用的靶材。一般我們使用的靶材不外乎三種類型,金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。

                        硬碟使用的靶材有很多,在記錄面上鍍上多層的薄膜,每層薄膜有各自的功效,在最底層,會鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金,增強結合力和抗腐蝕能力,中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金,再鍍上35nm厚的鈷合金,作為磁性材料,這種材料可以充分體現磁性和低干擾的特性,最后再鍍上15nm厚的碳薄膜。

                        磁頭的濺射靶材常用的是鐵鎳合金,后來又增加了一些新的化合物材料,像氮化鐵、氮化鐵鉭,氮化鐵鋁等,這些都是優質的磁介質膜層靶材。

                        CD碟片會用上鋁膜作為反射層鍍在塑料的工件上,但對于CDROM和DVDROM這些碟片,就不能使用鋁膜了,因為在這些碟片上會有一層染料層,上面的物質對于鋁而言具有一定的腐蝕性,一般會由金膜或銀膜替代。

                        光碟的膜層也是多層組成的,它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層,里面混有非晶態稀土過渡元素,再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質層,最后鍍上鋁膜反射層。

                        這些需要落得磁性能,能夠記錄數據的電子產品,要實現這些功能,還是要靠各種不同物質所濺射而成的薄膜,靠其成膜后顯示出來的晶體狀態排序來實現。
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